ProjectVerb.Proj. Teilvorhaben: Materialien und Resistprozesse für die Niederspanungs-Elektronenstrahl-Lithographie
Basic data
Title:
Verb.Proj. Teilvorhaben: Materialien und Resistprozesse für die Niederspanungs-Elektronenstrahl-Lithographie
Duration:
06/06/2000 to 19/04/2005
Keywords:
Calixarene
Elektronenstrahl-Lithographie
Nanolithographie
Involved staff
Managers
Faculty of Science
University of Tübingen
University of Tübingen
Institute of Applied Physics (IAP)
Department of Physics, Faculty of Science
Department of Physics, Faculty of Science
Local organizational units
Institute of Applied Physics (IAP)
Department of Physics
Faculty of Science
Faculty of Science
Funders
Bonn, Nordrhein-Westfalen, Germany