ProjektVerb.Proj. Teilvorhaben: Materialien und Resistprozesse für die Niederspanungs-Elektronenstrahl-Lithographie
Grunddaten
Titel:
Verb.Proj. Teilvorhaben: Materialien und Resistprozesse für die Niederspanungs-Elektronenstrahl-Lithographie
Laufzeit:
06.06.2000 bis 19.04.2005
Schlüsselwörter:
Calixarene
Elektronenstrahl-Lithographie
Nanolithographie
Beteiligte Mitarbeiter/innen
Leiter/innen
Mathematisch-Naturwissenschaftliche Fakultät
Universität Tübingen
Universität Tübingen
Institut für Angewandte Physik (IAP)
Fachbereich Physik, Mathematisch-Naturwissenschaftliche Fakultät
Fachbereich Physik, Mathematisch-Naturwissenschaftliche Fakultät
Lokale Einrichtungen
Institut für Angewandte Physik (IAP)
Fachbereich Physik
Mathematisch-Naturwissenschaftliche Fakultät
Mathematisch-Naturwissenschaftliche Fakultät
Geldgeber
Bonn, Nordrhein-Westfalen, Deutschland