PatentGas-Sensor und Verfahren zu seiner Herstellung
Grunddaten
Titel:
Gas-Sensor und Verfahren zu seiner Herstellung
Aktenzeichen (DPMA):
10 2010 027 070.9
Erstanmeldung:
13.07.2010
Aufgabe:
02.02.2016 (erloschen)
Erfinder
Institut für Physikalische und Theoretische Chemie (IPTC)
Fachbereich Chemie, Mathematisch-Naturwissenschaftliche Fakultät
Fachbereich Chemie, Mathematisch-Naturwissenschaftliche Fakultät
Kemmler, Jens
ehemals Universität Tübingen
Mathematisch-Naturwissenschaftliche Fakultät
Universität Tübingen
Universität Tübingen
Institut für Physikalische und Theoretische Chemie (IPTC)
Fachbereich Chemie, Mathematisch-Naturwissenschaftliche Fakultät
Fachbereich Chemie, Mathematisch-Naturwissenschaftliche Fakultät
ETH Zürich - Eidgenössische Technische Hochschule Zürich
Zürich, Schweiz
Zürich, Schweiz
Universität Bremen
Bremen, Deutschland
Bremen, Deutschland
Universität Bremen
Bremen, Deutschland
Bremen, Deutschland
Lokale Einrichtungen
Institut für Physikalische und Theoretische Chemie (IPTC)
Fachbereich Chemie
Mathematisch-Naturwissenschaftliche Fakultät
Mathematisch-Naturwissenschaftliche Fakultät
Nationalisierung
PCT Anmeldung
Anmeldedatum:
07.07.2011
Anmeldenummer:
PCT/DE2011/001417
Nationalisierungen
Patentfamilie:
10 2010 027 070.9, EP 2593779, US 2013 0111974 A1, JP 2013 531 250 A, CN 103221809 A, KR 10 2013 143 538 A
EP 2593779
European Patent Office
07.07.2011
21.05.2014
US 2013 0111974 A1
USA: United States Patent and Trademark Office
07.07.2011
28.07.2015
JP 2013 531 250 A
Japan: Japan Patent Office
07.07.2011
25.05.2016
CN 103221809 A
China: State Intellectual Property Office
07.07.2011
23.09.2015
KR 10 2013 143 538 A
Südkorea: Korean Intellectual Property Office
07.07.2011
15.11.2017