Project Verb.Proj. Teilvorhaben: Materialien und Resistprozesse für die Niederspanungs-Elektronenstrahl-Lithographie

Basic data

Title:
Verb.Proj. Teilvorhaben: Materialien und Resistprozesse für die Niederspanungs-Elektronenstrahl-Lithographie
Duration:
06/06/2000 to 19/04/2005
Keywords:
Calixarene
Elektronenstrahl-Lithographie
Nanolithographie

Involved staff

Managers

Faculty of Science
University of Tübingen
Institute of Applied Physics (IAP)
Department of Physics, Faculty of Science

Local organizational units

Institute of Applied Physics (IAP)
Department of Physics
Faculty of Science

Funders

Bonn, Nordrhein-Westfalen, Germany
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